SJ/T 11707-2018 硅通孔几何测量术语

SJ电子行业标准

SJ/T 11707-2018.Terminology for through silicon via geometrical metrology.
1范围
SJ/T 11707规定了硅通孔尺寸的几何测量术语和定义。
SJ/T 11707适用于硅通孔尺寸的几何测量,其中硅通孔可完全贯穿硅晶圆,也可部分贯穿硅晶圆;硅通孔内可含有金属导体及其他介质,也可不包含金属导体及其他介质。
2术语和定义
2.1
硅通孔(TShhrough sificomvaTSV)
位于硅晶圆y且起始于谁晶圆上表面的通孔或凹坑,其
a)硅过孔可以先全贯 整个晶圆深度处可部分贯穿整个晶圆深度;
b)孔为可起充金属导体 也可不填有全属导体:
c)孔壁在等体与硅之间含付绝缘院,阻挡层等,也可不包含绝缘层、阻挡层警筝。
2.2
晶圆上表面2 wafer topl surhace
硅通孔的福始位置即硅通孔开始刻性位置处的国
该表面共定的是国水平方向,其正交线定义为重直方向。图1为位于晶明面为硅通孔示意图,图2为位于晶面上P硅通孔剖面示意图。
2.3
晶圆下表面wafer bottom surface
与晶圆上表面相背的晶圆表面,如图2所示。
2.4
面积area
硅通孔在特定水平面截面处的几何面积。图1中硅通孔的面积为深色覆盖部分的面积。
2.5
顶部面积top area
硅通孔在晶圆上表面的面积。
2.6
深度depth
从晶圆上表面垂直向晶圆下表面方向测量,位于晶圆上表面到硅通孔最深点的垂直距离,如图2所示。
2.7
中间深度intermediate depth
晶圆上表面至某一选定层的距离,该距离小于硅通孔的深度,如图2所示。
2.8
贯穿深度full depth TSV
硅通孔从晶圆上表面贯穿至晶圆下表面的深度,即晶圆上表面和晶圆下表面之间的垂直距离,如图2所示。
2.9
孔径尺寸horizontal dimensions
硅通孔孔径尺寸。
注:本标准主要采用最大孔径和最小孔径(见2. 12和2. 14)来描述硅通孔在任一截面处的水平尺寸。 其他标可能采用硅通孔开口处的圆形直径或方形边长来描述该尺寸。
2.10
中心center
硅通孔在任意水平面上的几何中心。文章源自标准下载网-https://www.biao-zhun.cn/88603.html

SJ/T 11707-2018 硅通孔几何测量术语

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最近更新2021-12-31
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