SJ/T 11507-2015 集成电路用氧化层缓冲腐蚀液

SJ/T 11507-2015.Oxide coating etching buffer for integrated circuit.
1范围
SJ/T 11507规定了集成电路用氧化层缓冲腐蚀液的术语、性状.技术要求、试验方法、检验规则和包装、标志、储存、运输等。
SJ/T 11507适用于集成电路用氧化层缓冲腐蚀液
SJ/T 11507不涉及使用安全性问题本标准的使用人痤负责建水适当的安全健康条款及使用范围的限制。
FORI
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引民件，仅所进日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的用文件，其最新版本(包播所有的修改单)适用于本文件)
GB/T 191包装储运图赤标志
GB/T 601任学试剂标推滴定溶液的制备
GB/T 602化学试剂杂顺测定用标准溶波的制备
GB/T 603化学试剂试验方法中所用制剂及制最尔制备
GB/T 605纯学试剂色度测定通用方法
GB/T 6678工品采样总购
GB/T 6682台近实验室用水规格和试验方法
GB/T 9727化学试划磷酸盐测定通用方法
GB/T 9728化学试剧硫酸盐测定通用方法
GB/T 9729化学试私氯化物测定通用方法
GB/T 9742化学试剂硅酸盐测定通用方法
GB/T 1446.1电子级水、
GB 15258化学品安全际签编写规定
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